n-ヘキサンの製造工程
外国のヘキサン生産のほとんどは、米国のRichfield（Richfield）やWatson（Watson）などのモレキュラーシーブ吸着プロセスを使用しており、再構成されたラフィネートを原料として使用し、吸着のために2つ以上のベッドをリサイクルしています。 n-ヘキサンを生成する脱着を押します。
ほとんどの国内のヘキサン製造業者は水素化蒸留プロセスを使用しており、これは 2 つのタイプに分けられます。

まず、水素化、次に精留。

前水素化とも呼ばれ、原料は熱交換によって加熱され、反応温度に達し、水素化反応器に入り、触媒の作用下で脱硫および脱芳香族化反応し、溶媒油と水素混合物は分離タンクに入ります。 、水素回収、精留塔への溶剤油の最終製品へのカット。一般的に言えば、原料の水素化の後、それはまだ分別され、n-ヘキサンと他の異なる種類の溶剤油に切断されます.利点は、すべての原材料が脱芳香族化され、枯渇し、各製品を最大限に活用できることです。不利な点は、投資が大きく、材料の消費量が多いことです。

次に、精留してから水素化します。

後水素化ともいい、n-ヘキサンの場合、まず原料を66～69留分範囲の粗ヘキサンに切り分けることで、粗ヘキサンの純度が大幅に向上し、フェニル基がn-ヘキサンに含まれる、粗製ヘキサン中のヘキサン 含有量も大幅に増加し、その後、水素化脱ベンゼン脱硫を行い、高品質のn-ヘキサンを製造します。利点は、投資が少なく、材料の消費が少ないことです。欠点は、水素化されていない部分が有効に利用されないことです。